Mikroelektronikindustri

Et par uopsamlede partikler eller gasmolekyler kan få meget alvorlige konsekvenser i nogle processer. Forestil dig, hvilke skader forurenet luft kan gøre til fremstilling af halvledere, lægemidler og andre særdeles følsomme processer.

Avancerede produktionsmetoder kræver ofte store mængder ren luft, og i mange tilfælde vil kravene uden tvivl blive skærpet yderligere. Den kritiske partikelstørrelse for wafer-miljø er nu under 25 nm (2009) og forudsigelserne er, at denne størrelse vil fortsætte med at skrumpe mod 10 nm i 2017. Airborne molecular contamination (AMC) er nu en stor udfordring for alle avancerede mikroelektroniske FAB. En bred vifte af AMC-følger er blevet observeret til at påvirke produktionsudbyttet. For eksempel har korrosion af harddiske, kondenserbar organisk nedfald på følsomme overflader eller eksponering af for lave niveauer af ammoniak alle vist sig at påvirke forskellige procestrin.

"Hjertet" i renrummet er filtrene, men der findes også en række andre ting at tænke over vedrørende rumklassificering, filtervalg og hvordan, filtrene påvirker omgivelserne.

Camfil er godt positioneret til at anbefale den bedste løsning til avanceret partikel- og AMC kontrol takket være mere end 15 års erfaring inden for mikroelektronik samt gennem vores engagement i International Technology Roadmap for Semiconductors.

HEPA, ULPA og molekulærfiltre fremstilles i kontrollerede miljøer på Camfils ISO 9000-certificerede fabrikker. Vi kan fremstille samme type filtre på mange forskellige produktionsanlæg. Vores høje produktionskapacitet er en garanti for, at vores produkter altid er tilgængelige overalt i verden.

Beskyttelse af:

  • Wafers og halvledere
  • Mikroelektronisk procesudstyr
  • Harddiske
  • Printkort
  • Fladskærme
  • Solpaneler
Kontakt

Det er let at kontakte os

Kontaktinformation
KEEP UPDATED!

Tilmeld dig Camfils nyhedsbrev